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            光應力分析—LF/Z-2型反射式偏光應力分析系統

            光應力分析—LF/Z-2型反射式偏光應力分析系統

            • 分類:專業術語
            • 作者:
            • 來源:
            • 發布時間:2016-10-10 00:00
            • 訪問量:11

            【概要描述】

            光應力分析—LF/Z-2型反射式偏光應力分析系統

            【概要描述】

            • 分類:專業術語
            • 作者:
            • 來源:
            • 發布時間:2016-10-10 00:00
            • 訪問量:11
            詳情

            什么是光應力分析?

            全域應力和應變分析方法

            可用于負載變化的情況

            適合于殘余應力分析,裝配應力檢測和疲勞測試

            可應用于各種不同的材料(金屬、復合材料、混凝土以及更多材料)

            易于使用和分析結果

            關于光應力

            PhotoStress?分析系統由一臺反射偏光器和一套PSCalc?計算機軟件組成,用戶可以存儲并處理LF/Z-2讀出的應力和應變數據

            多樣的光應力涂層可用于大范圍的材料,以及簡單活復雜的形狀

            PhotoStress?分析系統—主要優勢和解決方案:

            迅速確定應力集中區和零應力區

            定量測量在結構上任一點的應力好應變

            驗證所有有限元分析(FEA)

            減少負載優化

            分析,包括:

            由構造誤差引起的應力

            裝配過程中產生的應力

            加工過程中的殘余應力例如鑄造和焊接

            簡單或復雜的應力狀況

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